神经形态计算

内容简介围绕边缘计算、脑机接口及量子神经形态等前沿应用场景，上海大学等国际团队系统梳理了二维材料在神经形态计算领域的研究进展，对过渡金属二硫属化物、六方氮化硼、黑磷及碲烯等关键材料体系的特性及其适用场景进行了系统对比，并覆盖了从两端忆阻器、三端忆晶体管到范德华异质结等多种器件架构的设计思路。

围绕边缘计算、脑机接口及量子神经形态等前沿应用场景，上海大学等国际团队系统梳理了二维材料在神经形态计算领域的研究进展，对过渡金属二硫属化物、六方氮化硼、黑磷及碲烯等关键材料体系的特性及其适用场景进行了系统对比，并覆盖了从两端忆阻器、三端忆晶体管到范德华异质结等多种器件架构的设计思路。

展望未来，二维材料神经形态计算的发展将取决于三个方向的协同推进：其一是基础材料研究的持续深入，尤其是在大面积高质量薄膜的合成方法、缺陷的可控工程以及异质结构的能带设计方面；

II神经形态计算基础

可以预见，随着材料科学、器件物理与计算机科学之间的壁垒逐步消融，二维材料驱动的神经形态计算有望从实验室走向更广阔的应用界面——在边缘人工智能、脑机接口、自适应传感与量子信息处理等领域，发挥其不可替代的作用。