电解液

LLOs的高容量来源于阴离子和阳离子协同的氧化还原化学，这要求充电截止电压高达约4.8V，远超常规碳酸酯电解液的氧化稳定窗口。

为排除正极侧电解液氧化干扰，以Li₄Ti₅O₁₂为对电极，将电压窗口下移至电解液稳定区间。

XPS与Raman分析佐证了上述差异，ICP-OES进一步证实CFₓ-LNM中Ni、Mn溶出量在各阶段均受到显著抑制，证明人工CEI层在长期循环中持续发挥着保护表面晶格、抵御电解液侵蚀的核心作用。

与传统上仅致力于元素掺杂或晶格重构等单一改性路径的做法不同，该工作强调了人工界面层在化学组分、结构形态与电化学功能上的协同设计：非晶态富C/F层既可作为致密物理屏障抵御电解液侵蚀，又能凭借其优异的抗氧化稳定性避免高电压下CEI层的持续恶化，而适度厚度的非晶特征则兼顾了锂离子的低活化能传输。

在界面化学侧，该富氟层凭借其优异的抗氧化稳定性和界面兼容性，避免了高电压下电解液的持续分解与有害沉积物的堆积，同时大幅降低了锂离子穿越界面层的活化能垒。

该策略巧妙地实现了“固表”与“稳界”的协同：在表面晶格侧，非晶态的人工CEI层作为致密的物理屏障，有效阻隔电解液对表面氧晶格的侵蚀，抑制氧空位的生成与向内蔓延，从而延缓层状结构向无序相或尖晶石相的不可逆转变；

XPS与Raman分析佐证了上述差异，ICP-OES进一步证实CFₓ-LNM中Ni、Mn溶出量在各阶段均受到显著抑制，证明人工CEI层在长期循环中持续发挥着保护表面晶格、抵御电解液侵蚀的核心作用。

在此模型下，人工CEI使累计库仑效率损失显著降低，平均CE从99.60%跃升至99.82%，有力证明了该预构筑界面即便不依赖电解液分解产物，亦可独立发挥稳定电极反应可逆性的关键作用。