氟掺杂

(c)氟掺杂稳定间接配位氧原子的示意图。

中国科学技术大学姚涛教授/刘潇康特任高级工程师PhotonScience|原位DXAFS结合机器学习揭示氟掺杂稳定-材料研究述评（英文）的博文中国科学技术大学姚涛教授/刘潇康特任高级工程师PhotonScience|原位DXAFS结合机器学习揭示氟掺杂稳定精选

该研究通过原位色散X射线吸收精细结构谱（DXAFS）结合无监督机器学习，直接观测到氟掺杂稳定的Cuδ+活性中间态，揭示了氟掺杂提升氧化铜催化剂结构稳定性及CO2电还原性能的微观机制。

理论计算揭示了氟掺杂的微观机制（图4）。

理论计算进一步揭示，氟掺杂诱导的d带中心上移优化了关键中间体的吸附行为，降低了C-C偶联能垒，从而显著提升C2+产物的选择性。

态密度计算显示，氟掺杂导致Cu的d带中心上移，增强了与吸附中间体的相互作用。