TMS光催化剂

为将“电子维度”这一前沿设计理念从理论层面转化为指导高性能TMS光催化剂设计的实用工具，必须建立一套能够定性描述乃至定量的评估体系。

随着TMS光催化剂的设计理念从传统的结构维度拓展至对“电子维度”与“光腐蚀行为”的深层调控，其在可见光PHE领域展现出愈发显著的应用优势。

IX本征硫配位导向合成方法：破解TMS光催化剂光腐蚀难题的创新策略

这一机理性的突破不仅简化了TMS光催化剂的合成流程，更重要的是，其所带来的增强型M-S键稳定性，可从源头上抑制S空位的形成，从而为根本上抑制TMS光催化剂的光腐蚀、提升其长程光稳定性提供了全新的理论与技术路径。

I突破传统结构维度范式：3D电子维度与可控光腐蚀共筑TMS光催化剂先进设计理念

该项研究工作成功地将3D电子维度的优势拓展至更广泛的光催化领域，为设计基于3D电子维度TMS光催化剂的多场耦合催化系统提供了重要思路。

这一机理性的突破不仅简化了TMS光催化剂的合成流程，更重要的是，其所带来的增强型M-S键稳定性，可从源头上抑制S空位的形成，从而为根本上抑制TMS光催化剂的光腐蚀、提升其长程光稳定性提供了全新的理论与技术路径。