溅射技术

本综述通过阐明溅射技术的进展与局限，不仅加深了我们对薄膜沉积过程的现有理解，更为未来创新溅射技术的发展奠定了基础，在新型材料探索及其跨行业应用方面具有巨大潜力。

通过阐明溅射技术的进展与局限，不仅加深了我们对薄膜沉积过程的理解，更为未来创新溅射技术的发展铺平了道路，在新型材料探索及其跨行业应用方面具有巨大潜力。

（2）展示多个通过溅射技术生长的高质量外延薄膜案例，并强调其优异的物理性能。

本综述深入探讨了低损伤溅射技术及其在合成高质量外延多功能氧化物异质结构中的重要性。

本综述深入探讨了低损伤溅射技术的相关研究，其核心意义在于：（1）改进溅射技术以减轻高能通量对衬底造成的损伤；

重点阐述了溅射技术近期的重大进展，聚焦于以下核心问题：含挥发性元素材料的化学计量比维持、界面原子级精准控制、氧化物中额外阴离子的引入、多晶型物中特定相的筛选，以及薄膜微观结构的调控。