力学性能

结果表明：随着硼含量的增加，陶瓷的硬度和断裂韧性显著提升，并且在室温至300°C范围内保持稳定，这表明硼的引入促进了力学性能的提高。

“砖-砂浆”层状结构和MXene、PPy和HA之间丰富的氢键相互作用协同响应外部应力，有效提高HMP纳米复合纸的力学性能。

IIHMP纳米复合纸的力学性能和断裂行为

IIHMP纳米复合纸的力学性能和断裂行为所有纸都表现出类似贝壳的拉伸行为，首先引起线弹性变形，然后出现明显的塑性伸长，直至断裂(图2a)。

IIMXene/ANF-MoS₂复合薄膜的力学性能

双组份MXene/ANF复合薄膜与三组份MXene/ANF-MoS₂复合薄膜力学性能对比图：(b)断裂应变；

对双组份MXene/ANF和三组份MXene/ANF-MoS₂复合薄膜的力学性能、电磁屏蔽性能和热性能进行对比，可以发现在双组份MXene/ANF复合体系中引入MoS₂后，力学性能、电磁屏蔽性能以及光热转变性能均展现出极大地改善增强。

2022年于西安交通大学获得博士学位，现为香港城市大学博士后研究员，研究兴趣为二维纳米材料的力学性能、变形和断裂。

MoS₂的引入对双组份MXene/ANF复合薄膜具有“一石三鸟”的改善作用效果：润滑增韧力学性能，降低电磁波的二次反射污染以及增强光热转变性能。

研究表明，高导电填料对复合薄膜实现优良电磁屏蔽性能至关重要，但高导电填料下，复合薄膜的力学性能往往会快速降低。

MoS₂纳米片引入到MXene/ANF复合体系后，MXene/ANF复合薄膜的力学性能展现出极大改善，在保留电磁屏蔽性能的同时降低了电磁波的二次反射，同时增强了光热转变性能。

经过对双组份MXene/ANF以及三组份MXene/ANF-MoS₂复合薄膜的断裂应变、拉伸强度以及韧性的对比(如图2b-d)，表明MoS₂的引入对MXene/ANF复合体系的力学性能具有明显的改善增强作用。

因此，要同时提高高性能电磁屏蔽材料的电磁屏蔽效能、力学性能和各种功能，必须结合合理的材料选择、有效的微观结构设计以及有机界面和无机界面的相互作用。

虽然这些结果令人兴奋，但这些MXene/聚合物复合薄膜在力学性能或电磁屏蔽性能或功能方面有所改善的同时牺牲了其中一种性能。