p-mSi@SiOₓ/C

(k)mSi、mSi@C和p-mSi@SiOₓ/C的振实密度。

进一步通过表面XPS和TOF-SIMS表征可以看出，与mSi和mSi@C相比，p-mSi@SiOₓ/C电极表面存在更多的LiF，这表明SiOₓ/C层能够促进电极表面形成富含LiF的SEI膜，有助于提高SEI膜的机械强度、离子扩散性能和化学稳定性，并有效抑制电解液在电极表面和内部的渗入分解。

图2d为p-mSi@SiOₓ/C的元素分布结果，Si、O、C和N元素呈均匀分布状态。